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泰利恒友申请一种激光全息薄膜及其制备方法专利,提升激光全息薄膜防伪效果

标签: 日期:2025-01-22 20:44来源:未知作者:admin
国家知识产权局信息显示,湖南泰利恒友科技开发有限公司申请一项名为一种激光全息薄膜及其制备方法的专利,公开号 CN 119274428 A,申请日期为2024年12月。 专利摘要显示,本发明涉及激光全息薄膜领域,具体为一种激光全息薄膜及其制备方法,所述激光全息薄

  国家知识产权局信息显示,湖南泰利恒友科技开发有限公司申请一项名为“一种激光全息薄膜及其制备方法”的专利,公开号 CN 119274428 A,申请日期为2024年12月。

   专利摘要显示,本发明涉及激光全息薄膜领域,具体为一种激光全息薄膜及其制备方法,所述激光全息薄膜由信息层和基膜层组成,所述信息层为稀土掺杂纳米二氧化钛薄膜,所述稀土掺杂纳米二氧化钛薄膜在400‑1000nm波长范围内的折射率≥1.9,本发明可以实现激光全息薄膜防伪效果的提升。

   天眼查资料显示,湖南泰利恒友科技开发有限公司,成立于2013年,位于常德市,是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本5000万人民币,实缴资本2000万人民币。通过天眼查大数据分析,湖南泰利恒友科技开发有限公司参与招投标项目200次,专利信息27条,此外企业还拥有行政许可8个。

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